第 4 條
公私場所堆置逸散性粒狀污染物質,應設置或採行下列有效抑制粒狀污染物逸散設施之一:
一、堆置於封閉式建築物內。
二、除出入口外,堆置區四周應以防塵網或阻隔牆圍封,其總高度應達設計或實際堆置高度一.二五倍以上。
三、覆蓋防塵布或防塵網,覆蓋面積應達堆置區面積百分之八十以上。
四、噴灑化學穩定劑,噴灑面積應達堆置區面積百分之八十以上。
五、設置自動灑水設備,灑水範圍應涵蓋堆置區域,並於堆置期間噴灑,使堆置物保持濕潤。
六、設置其他經直轄市、縣(市)主管機關同意,效果優於前五款之設施。
公私場所採前項第二款至第五款之設施,除出入口外,應設置阻隔設備及防溢座,防止堆置物掉落或溢流至堆置區外;採前項第三款或第四款之設施,位於細懸浮微粒或懸浮微粒三級防制區者,覆蓋面積須達堆置區面積百分之九十以上。
公私場所逸散性粒狀污染物質堆置場,總設計或實際堆置體積在三千立方公尺以上或堆置量在每年六萬公噸以上者,應採行第一項第二款以外設施之一。