本章適用對象為公私場所具有石化製程、第十五條規定揮發性有機液體儲槽或第二十四條規定揮發性有機液體裝載操作設施之設備元件，其分類包括泵浦、壓縮機、釋壓閥、安全閥等釋壓裝置、取樣連接系統、開口閥、閥、法蘭、管牙、快速接頭或其他與製程設備銜接之連接頭等。但下列設備元件不適用本章規定：
一、流經該設備元件之流體中，其揮發性有機物重量比小於百分之十者。
二、屬於真空設備元件者。
三、設備元件埋於地下無法量測者。
四、揮發性有機液體裝載操作設施之灌裝臂出口於灌裝物料過程者。

公私場所設備元件之洩漏管制規定如下：
一、設備元件軸封處之製程流體包括重質液及輕質液，製程流體滴漏每分鐘不得超過三滴。
二、設備元件之淨檢測值不得大於一萬ppm；並自中華民國一百十四年一月一日起設備元件之淨檢測值不得大於一千ppm。但經主管機關稽查檢測設備元件之淨檢測值大於一千ppm且小於五千ppm，自發現時起二十四小時內完成修護者，不在此限。
三、開口閥之下游端應裝設栓蓋、盲法蘭、栓塞或二次閥以封止其開口端。但實際操作中製程流體需自開口閥排出者，不在此限。
四、輕質液及氣體取樣連接系統應符合下列規定之一：
（一）取樣連接系統裝設有密閉集氣系統連通至污染防制設備，且該污染防制設備符合第三十一條第一項第八款之規定。
（二）採用密閉迴路式取樣連接系統。
（三）採用線上取樣分析系統者。

前項第一款及第二款不適用已依第三十三條第一項第二款規定標示標籤，且依第三十二條規定期限內修護之設備元件。

公私場所應完成設備元件建檔，並依下列規定進行設備元件洩漏檢查（測）：
一、輕質液泵浦應每週目視檢查其軸封處是否有製程流體滴漏。
二、重質液設備元件應每週目視檢查或以嗅聞、聽覺等其他簡易方法檢漏。
三、發現前二款有洩漏跡象者，應於二十四小時內進行檢測，以確認是否為洩漏源。
四、輕質液及氣體設備元件應每三個月檢測一次。
五、屬於難以檢測之重質液設備元件應每四年檢查一次，自中華民國一百十五年一月一日起應每一年檢查一次；屬於難以檢測之輕質液及氣體設備元件應每二年檢測一次，自一百十五年一月一日起應每一年檢測一次。
六、輕質液及氣體設備元件應每三個月檢測一次。但符合下列情形，並經地方主管機關核可者，得依下列規定變動檢測頻率。但違反第三十條規定者，應回復其原定之檢測頻率：
（一）連續六個月洩漏比例均小於百分之零點三者，得每六個月檢測一次。
（二）連續一年洩漏比例均小於百分之零點一者，得每一年檢測一次。
七、難以檢測之重質液、輕質液及氣體設備元件，連續二年洩漏比例小於百分之零點三者，並經地方主管機關核可者，得每二年檢測一次。但發生違反第三十條規定者，應回復其原定之檢測頻率。
八、氣體釋壓裝置裝設有密閉集氣系統連通至鍋爐或加熱爐之爐膛火焰區或其他使揮發性有機物削減率達百分之九十五之污染防制設備，得免檢測。

公私場所應委託依本法第四十九條取得中央主管機關核給許可證之檢驗測定機構檢測前項第三款至第七款設備元件之洩漏。

公私場所依第一項第一款至第五款進行設備元件檢查（測）有困難者，應報經地方主管機關核可後，得以其他檢查（測）方式替代或延長檢測頻率。

公私場所應依下列規定進行設備元件修護：
一、設備元件經發現為洩漏源者，應於發現時起二十四小時內以鎖緊或密封等方式修護，因情形特殊報經地方主管機關核准後，始得再延長二十四小時。無法以鎖緊或密封等方式修護者應於發現日起七日內以更換零件或克漏等方式修護，因情形特殊報經地方主管機關核准後，始得再延長修護時間八日。
二、採取前款修護方法後仍無法完成修護者，應於第一項規定完成修護日或經地方主管機關核定延長修護日起五日內檢具洩漏源發現日期、修護方法、展延修護之理由、展延修護時間及洩漏源之維護措施，報經地方主管機關核准後，始得展延。主管機關應依實際狀況核定展延期限，最長不得超過最近一次停車期間。
三、前款所稱完成修護指修護後洩漏源淨檢測值低於洩漏定義值。

公私場所應依下列規定進行設備元件洩漏檢查（測）之紀錄、保存及申報：
一、設備元件之定期檢查（測）應做成紀錄，包括檢查方式或使用之檢測儀器型式、檢查（測）人員姓名、元件編號、元件型式、流體組成、檢查（測）日期及結果。
二、設備元件經檢查（測）判定為洩漏源者，應將相關資料記錄在維護紀錄表上，並以標籤標示，包括檢查方式或使用之檢測儀器型式、檢查（測）人員姓名、洩漏源之元件編號、洩漏源發現日期、洩漏源修護前後檢測濃度、修護完成日期、修護方法、展延修護之理由。
三、前款設備元件經檢查（測）判定為洩漏源者，應符合下列規定之一：
（一）依中央主管機關所定之格式，以網路傳輸方法下載標籤，並以防水保護標示在洩漏源上，修護完成後，以網路傳輸方式申報維護紀錄表及修護結果，始得拆除標籤。
（二）經中央主管機關公告公私場所之設備元件檢測應採自動記錄與傳輸設備者，應將設備元件檢測儀器所紀錄之初次發現洩漏源之檢測日期、洩漏源修護前後檢測濃度及修護前後之檢測日期等資料，上傳至中央主管機關指定資料庫。
四、檢測儀器之校正、保養及維護資料應做成紀錄。
五、第一款至第四款紀錄資料應製成檔案，連同設備元件檢測原始資料保存五年備查。

公私場所應於每年一月、四月、七月及十月之月底前，向地方主管機關申報前一季之前項第一款紀錄。

芳香烴製造程序、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚合物化學製造程序、苯乙烯化學製造程序所屬設備元件，應符合附表三所列有害空氣污染物相關製程設備元件之設備及措施規定規定。

製程釋壓裝置應以密閉集氣系統收集連通至污染防制設備或燃料系統。但有下列情形之一者，不在此限：
一、釋壓閥採破裂盤型式。
二、因安全考量無法設置，並報經地方主管機關核可。

逕排大氣之製程釋壓裝置，應記錄每次釋壓期間及排放量。連續二十四小時累積排放揮發性有機物大於二百公斤事件時，應於十五日內，依中央主管機關所定之格式，向地方主管機關提報事件排放報告書。

前項事件排放報告書之內容應包括下列事項：
一、釋壓裝置名稱及位置。
二、釋壓裝置排放事件之原因。
三、釋壓裝置排放事件之日期、時間及期間。
四、排放揮發性有機物之成分、排放量、計算方式及證明文件。
五、防止未來同類事件再發生之方法。
六、其他經主管機關規定之項目。

逕排大氣之釋壓裝置每次釋壓排放後五日內應以偵測儀器進行檢測，以判定其是否為洩漏源，不得適用第三十一條第一項第五款之規定。

石化製程設備元件污染防制設備之流量計及連續自動監測設施適用第十四條之規定。