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化粧品優良製造準則   第 四 章 設備 ( 108年08月13日)
第 23 條
化粧品製造場所之設備,應符合其預定用途,且易於清潔及必要之消毒與維護。

第 24 條
化粧品製造場所之設備設計,應依下列規定辦理:
一、防止產品受到污染。
二、半成品容器設有防護,避免灰塵、濕氣及其他空氣污染。
三、對傳輸軟管與附屬設備予以清潔及必要之消毒,保持乾燥及良好之保護狀態,避免灰塵、潑濺或其他污染。
四、採用與產品、清潔劑及消毒劑相容之設備材質。

第 25 條
化粧品製造場所之設備安裝,應依下列規定辦理:
一、易於排水,以利清潔與消毒。
二、安裝位置避免使原物料、移動式設備及人員之動線,影響產品品質風險。
三、設備下方、內部及周圍留有適當空間,以利維護與清潔。
四、主要設備易於識別。

第 26 條
化粧品製造場所之設備校正,應依下列規定辦理:
一、與產品品質有關之實驗室用及生產用之量測儀器,予以定期校正。
二、校正結果不符合允收基準之量測儀器,予以適當識別並停用。
三、調查前款情形,確認對產品品質之影響,並採取適當措施。

第 27 條
化粧品製造場所之設備清潔與消毒,應依下列規定辦理:
一、對所有設備實施適當清潔,必要時,訂定消毒計畫。
二、明定使用之清潔劑與消毒劑,並確保發揮效果。
三、清潔持續生產或生產同一產品連續批次之設備;必要時,訂定適當消毒週期,並執行之。

第 28 條
化粧品製造場所之設備維護,應依下列規定辦理:
一、定期實施維護作業。
二、維護作業不得影響產品品質。
三、區別辨識有瑕疵之設備,除有不能之情事者外,停止使用並隔離之。

第 29 條
化粧品製造場所設備使用之消耗品,不得影響產品品質。

第 30 條
化粧品生產與管制之設備或自動化系統,應由權責人員操作與使用。

第 31 條
化粧品製造業者應對於持續運作系統之損壞或失效,備妥適當之替代方案。