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下水道工程設施標準   第 三 章 污水下水道工程設施 第 三 節 污水處理設施 ( 98年11月27日)
第 39 條
污水處理廠設計規定如下:
一、設置時應考量地形及用地形狀、大小,採用集中或分區處理,並得預留擴建用地。
二、計畫污水量之規定:
(一)計畫污水量按初級處理、二級處理、高級處理程度,依下表設計:
(二)污水處理廠進流污水量及水質,應依地域之特性及事業廢水狀況事先調查預估。必要時,得設置污水調節池。
三、處理方法之選擇應考慮放流水標準及承受水體之水體分類及水質標準,並依處理廠位置及其規模、建設及操作等經濟因素及相關資源等,配合處理設施設計之指標,計算污染物質之去除率,決定最適當之處理方法。
四、設計指標以五日生化需氧量及懸浮固體表示,其各級污水處理程度及其去除率範圍規定如下:

第 40 條
污水調節池設置規定如下:
一、容量以計畫污水量之時間變化量計算,並應設置攪拌裝置。
二、池之形狀為矩形或圓形之水密性構造,有效水深為三公尺至五公尺,並應考慮空池時之浮力作用。
三、流出設備以抽水機抽送至污水處理設施,並設置流量計。

第 41 條
預先曝氣池設置規定如下:
一、容量依計畫最大日污水量及曝氣滯留時間定之。
二、池之形狀為矩形或圓形。池寬或直徑為水深之一倍至二倍,為水密性構造。有效水深為四公尺至六公尺,出水高為五十公分,池頂高出地面至少十五公分。池邊應設寬九十公分以上之維護走道並設護欄。
三、曝氣方式、送氣量及曝氣之裝置:
(一)曝氣方式應能使污水產生渦流,並使懸浮固體保持懸浮狀態。
(二)送氣量依計畫最大日污水量設計。
(三)曝氣裝置得使用散氣板、散氣盤、散氣管或噴氣口等。材質應具耐酸、耐鹼及耐久性,其設置位置宜於曝氣池下方及易於取出維護之處。
四、曝氣停留時間為十分鐘至二十分鐘;有迴流活性污泥者為二十分鐘至三十分鐘。
五、迴流剩餘活性污泥者,其迴流量為計畫最大日剩餘活性污泥量之百分之百。
六、除在池之進出口設置開關或閘門,調節流量外,並應設置消泡設備。

第 42 條
沉澱池設置規定如下:
一、初步沉澱池:
(一)池之形狀為矩形時,矩形池長與寬之比為三比一至五比一,寬度及長度依刮泥設備而定,其寬度為五公尺以下,長度為四十公尺以下,池數為二池以上,為水密性構造,並應設置刮泥設備。圓形池池底坡度為百分之五至百分之十,矩形池池底坡度為百分之一至百分之二。
(二)漏斗型之污泥貯留槽壁應與水平成六十度以上。
(三)初步沉澱池之計畫污水量依計畫最大日污水量設計,其有效水深、水面積負荷、沉澱時間,及溢流負荷等規定如下表:
(四)池牆之出水高為五十公分,在進流口應設置整流壁。
(五)出水設備以使用溢流堰者為主,並設置除渣設備。止渣板之板頂距水面十公分,板底在水面下三十公分至四十公分。
(六)矩形池應設有連續轉動式或往復式刮泥板,刮泥板速度為每分鐘零點三公尺至一點二公尺,圓形池宜設迴轉式刮泥板,以每小時一週轉至三週轉,刮泥板外週速度為每分鐘三公尺以下。
(七)污泥應以抽泥機抽排,其排泥管之口徑應為一百五十公厘以上,排泥管之配置應考慮易於清除,並在適當地點設清除口。
二、最終沉澱池:
(一)最終沉澱池之計畫污水量依計畫最大日污水量設計,其有效水深、水面積負荷、沉澱時間及溢流負荷等範圍規定如下表:
(二)池牆之出水高為五十公分,整流壁之設置同初步沉澱池。
(三)出水設備以溢流堰為主。
(四)污泥得藉水位差排放或以抽泥機抽排,其排泥管之口徑應為一百五十公厘以上,排泥管之配置應考慮易於清除,並在適當地點設清除口。
(五)其餘形狀、構造、刮泥機設備依照前款初步沉澱池之規定 置。

第 43 條
曝氣池設計及設置規定如下:
一、曝氣池按處理方法不同依下表規定設計:
二、曝氣池設置採散氣式者,規定如下:
(一)送氣量依污水生化需氧量之去除量、硝化反應需氧量、曝氣槽混合液懸浮固體之需氧量及散氣設備之散氣效率等因素估計。
(二)容量按計畫最大日污水量、食微比及曝氣時間等估算,形狀為矩形,其寬度為水深之一倍至二倍,有效水深為四公尺至六公尺,池數為二池以上,必要時每隔二十公尺至四十公尺應設置阻流壁。
(三)池體構造及散氣裝置依第四十一條預先曝氣池規定設置,且其進口端應有污水及迴流污泥之計量設備。
(四)送氣管應防洩氣、耐高溫及防蝕。各部管徑之設計容量應較實際送氣量多百分之三十至百分之五十,管內平均流速為每秒三公尺至十五公尺,管線之氣壓總水頭損失為七百公厘至一千公厘。應裝置空氣計量器,各支管及主要送氣管並應裝置開關。
(五)鼓風機應設二部以上。最大送風壓力應大於散氣裝置所需水壓及氣壓總損失之和。鼓風機內應含空氣濾清器設備。鼓風機之基礎應為防震構造,並設有適當之噪音防制設備。
(六)迴流污泥抽泥機應設二部以上,其計畫容量為計量迴流污泥量之一點五倍至二倍,並應附有易於採樣及計量之裝置。
(七)進流及流出口應設止水閥或閘門,並在適當處設置排水管或可移動之抽水機。
(八)應設有消泡裝置,噴水之尖端壓力為每平方公分一公斤至一點五公斤。每一噴嘴之噴水量為每分鐘六公升至十公升,噴嘴高度為水面上零點三公尺至零點六公尺,噴嘴間之距離為一點二公尺至一點五公尺。消泡之抽水機以使用離心式為主,噴嘴及配水管應具耐蝕性。
三、曝氣池設置採機械攪拌式者,規定如下:
(一)送氣量按其生化需氧量之去除量、去除混合液懸浮固體需氧量及硝化反應需氧量決定供給。
(二)豎軸式機械攪拌曝氣池之容量,按計畫最大日污水量、食微比及曝氣時間估算之。池體為水密性之構造物,由多室之正方形池所構成,正方形各室間應設阻流板。池頂高出地面至少十五公分並設維護曝氣機之走道,池之四週及走道應設護欄。出水高應在八十公分以上。污泥迴流及附屬設備依前款規定設置。曝氣機依預先曝氣池規定設置。
(三)橫軸式機械攪拌曝氣池之容量,按計畫最大日污水量、食微比及曝氣時間估算之。池之有效水深為一公尺至三公尺,池寬為水深之一倍至二倍。池內流速每秒應大於零點三公尺,池底應設自然排水之洩水口,曝氣池有二個以上時應設連通口以便串連操作。如曝氣機為輪刷式曝氣機,其旋轉數為每分鐘六十轉至一百二十轉,並設變速或變浸水深度裝置。污泥迴流及附屬設備設置依前款規定設置。

第 44 條
生物膜法反應池之設置規定如下:
一、採標準滴濾法者:
(一)使用旋轉式噴水設備之濾池應為圓形,直徑不得超過四十五公尺;使用固定式噴水設備之濾池應為矩形。
(二)濾池水力負荷為每日每平方公尺一立方公尺至三立方公尺,濾料之生化需氧量容積負荷不得超過每日每立方公尺零點三公斤。
(三)濾料應採用耐久性、表面粗糙、大小均勻之材料,直徑為三十公厘至五十公厘。
(四)濾床深度為一點五公尺至二公尺,濾池底部斜度為百分之一至百分之二,集水部分斷面應考慮通風,並具集水所需斷面積二倍以上。
(五)濾池外壁為鋼筋混凝土造,噴水設備出水高度應在濾床面三十公分以上。
(六)自動配水槽之容量應能供應噴水設備五分鐘至十五分鐘之噴水量,自動配水槽之高低水位差為四十公分至七十五公分,其最小流出量不得低於最大流出量之二分之一,自動虹吸之最大流量等於進流污水之最大流量。鄰近住宅區時,濾池應加高池壁或加蓋,並設置通氣及除臭設備。
二、採高率滴濾法者:
(一)形狀依標準滴濾池規定。
(二)濾池水力負荷量依下表規定:
(三)如有迴流時,其水力負荷依下列公式計算:
(四)濾料應採用耐久性、表面粗糙、大小均勻之材料,直徑為五十公厘至六十公厘。其生化需氧量負荷不得超過每日每立方公尺一點二公斤。
(五)濾床深度、濾池底部斜度及其他構造依標準滴濾池規定設置,二個以上濾池串連使用時,各濾池之深度為零點八公尺至一點二公尺。
三、採超高率滴濾法者:
(一)形狀依標準滴濾法規定。
(二)濾池水力負荷為每日每平方公尺十五立方公尺至八十立方公尺。
(三)濾料應採用質輕、抗蝕、耐久性且大小均勻之材料,其生化需氧量負荷為每日每立方公尺零點四八公斤至一點六公斤。
(四)濾床深度為三公尺至十二公尺,底部斜度及其他構造依標準滴濾法規定。
四、採旋轉生物盤接觸法者:
(一)反應池應為水密性構造物,其平面形狀為矩形,斷面為半圓形或梯形。
(二)反應池之容積依計畫最大日污水量之生物反應水理滯留時間,或依液量面積比決定之,圓盤總表面積與反應槽實容積之比值應在每平方公尺五公升以上;兩反應池間之堰應為水平。
(三)反應池應設二組以上,並應加蓋或設置於室內。但應注意通風。外牆頂應出地面十五公分以上。
(四)旋轉圓盤應為耐久、質輕及不腐蝕之材料,使用聚乙烯或聚氯乙烯等波浪板、平板或蜂巢型板。圓盤直徑為三公尺至四公尺,盤體間隔應為十五公厘以上。圓盤與池壁及池底之間隙為十公分至四十公分。
(五)旋轉圓盤之浸水率為面積之百分之三十五至百分之四十五。
(六)每組圓盤體分為三段至四段之多段式接觸體,其周邊轉速為每分鐘十二公尺至十八公尺。
(七)旋轉生物接觸盤五日生化需氧量負荷為每日每平方公尺五公克至七公克。接觸盤之水力負荷不得超過每日每平方公尺一百二十五公升。接觸盤第一段實際總五日生化需氧量負荷不得超過每日每平方公尺四十公克。
(八)旋轉盤主軸及附桿應為耐蝕之材質,並能承載圓盤之均勻轉動。應於盤體外加覆蓋,且應有通風設備。
五、採接觸曝氣法者:
(一)反應池應為水密性構造物,形狀為矩形或正方形,寬度為水深之一倍至二倍,水深以三公尺至五公尺為標準,邊牆頂應高出地面十五公分以上,反應池應設二組以上,每組應設二室以上,第一室與第二室之容量比為三比二。
(二)反應池之容量依計畫最大日污水量之生物反應水理滯留時間十小時,或依生化需氧量容積負荷每日每立方公尺零點三公斤決定之。
(三)曝氣所需送風量以計畫最大日污水量之八倍為標準。
(四)接觸材之形狀應為比表面積大,且有充分之空隙率之管狀、網狀、骨格體狀、平板狀或球狀等,材質應為堅固不易變質之耐酸鹼材質。
(五)反應池內接觸材之池空間填充率為百分之五十五程度,第一室採空隙率大者,第二室採空隙率小者。
(六)設在反應池前方之初步沉澱池表面積負荷率為每日每平方公尺三十五立方公尺。在其後方之最終沉澱池則為每日每平方公尺二十五立方公尺。
六、採好氧濾床法者:
(一)濾床槽應為水密性構造物,平面形狀為矩形或正方形,邊牆頂高應考慮反沖洗時之水位,槽體應設二組以上。
(二)過濾速度依計畫最大日污水量為每日二十五公尺以下,生化需氧量容積負荷依計畫最大日污水量為每日每立方公尺二公斤以下。
(三)採多孔管由濾床下方均勻散氣,其散氣量以處理每公斤生化需氧量供給零點九公斤氧至一點四公斤氧為標準。
(四)濾材之粒徑為三公厘至五公厘,應為耐久性、面粗、粒狀均勻,濾層厚度為二公尺程度。
(五)反沖洗以一日一次程度,先以空氣,再以空氣加水,最後以水反沖之三步驟完成。

第 45 條
消毒得採用加氯消毒、紫外線消毒或臭氧消毒等方法,其消毒效果均應符合放流水標準規定。

消毒設備設置規定如下:
一、採加氯消毒者:
(一)氯之注入率以維持每公升放流水中餘氯零點二毫克至一點零毫克。氯加藥率如下表:
(二)加氯消毒使用之消毒劑,其貯藏數量及方法:
(三)氯消毒接觸槽之容量依計畫最大時污水量決定。槽之構造應能使污水與藥劑充分混合。
(四)氯加藥機容量宜為平常操作量之一點二倍至一點六倍,並應有備用設備,混合裝置之接觸時間,設計從消毒劑注入後經接觸到放流口為止,至少需十五分鐘。
(五)加藥機房:
(六)消毒劑貯存室:
(七)氯氣洩漏之中和設備:
(八)操作室及加藥量控制設備:
(九)次氯酸鈉溶液加藥裝置:
二、採紫外線消毒者:
(一)紫外線燈管在波長二三三點七至二七三點七納米的條件下,至少要有百分之九十之紫外光發散率,且壽命至少要有一萬小時。
(二)照射於紫外線下之元件,應為不銹鋼、石英或鐵弗龍之材質。
三、採臭氧消毒者:
(一)臭氧產生機產生之最高臭氧濃度於一立方公尺空氣量下不得低於一五○公克。
(二)臭氧產生機至少需有一臺備用,且每一臺有一組高濃度臭氧監測器。

第 46 條
二級處理水回收再利用處理設施設置規定如下:
一、取水場所應設於水位變動少、不易受沉澱物影響,且能確保充分取水量之處。
二、回收水再利用之處理設備應設置二套以上。
三、處理設備之選擇應依回收水之用途及其對應之水質要求,採下列機種:
(一)迴轉網篩機:濾網孔隙為五十網目(mesh)至八十網目,洗淨壓力應大於每平方公分一點五公斤。
(二)微篩機:濾網孔隙為一百網目至五百網目,洗淨壓力應大於每平方公分一公斤。
(三)快濾裝置:應選用懸浮固體去除能力高,並得以空氣及過濾水等洗淨之濾層構成。過濾速度應依進流水及過濾水之水質、懸浮固體去除能力及持續過濾時間等因素決定,並依下表規定設計:

第 47 條
污水處理廠內管渠設備設置規定如下:
一、導水管渠之配置:
(一)導水管渠之計畫污水量:
(二)管渠內之平均流速為每秒零點六公尺至一公尺。
(三)導水管渠應短而直,採用水密性之管材或箱涵,並應設置溢流管及其他連接管。
二、管廊應為水密性鋼筋混凝土構造,能安定支持及容納各種管閥類,其構造及配置應能便利管閥類及機器設備之搬運、安裝及檢修,並應有良好之通風、照明及排水設備,能防止雨水浸入、水災或作業傷害等。固定於管廊結構體之直管及閥類應設置可撓性伸縮管件,以防溫度伸縮、地盤沉陷、地震及振動等損害。
三、污水處理廠之用水管分為自來水管及回收水管二類,不得混接,其計畫流量分別視廠內之飲用、冷卻、水封及清洗等用水量決定。